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標題:CVD,MOCVD專用氫氣發生器的產品應用化學氣相沉積(CVD)和金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)是半導體制造、光電子和納米材料領域的重要技術。在這些過程中,氫氣作為一種關鍵的反應氣體或載氣,對薄膜的生長質量和產量有著至關重要的影響。因此,專為CVD和MOCVD設計的氫氣發生器在確保氫氣供應的純度、穩定性和可控性方面發揮著重要的作用。CVD和MOCVD專用氫氣發生器通常具備以下特點,以滿足特定的應用需求:1.高純度輸出:這些發生器能夠產生高達99.999%純度的氫氣,...
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氫氣發生器的工作原理是通過電解水產生氫氣和氧氣。在分離池的陰極上,使用貴金屬作為電極,通過特制的電解液體進行電解,從而產生高純度的氫氣。同時,陽極會產生氧氣,這些氧氣會被釋放到大氣中。產生的氫氣經過凈化和干燥后輸出。氫氣發生器主要應用了兩種主流技術:質子交換膜技術和可再生的變壓吸附干燥技術。質子交換膜技術通過電解水來產生氫氣和氧氣,然后利用變壓吸附干燥技術去除氫氣中的水汽,確保氫氣的純度最高。使用氫氣發生器時,首先需要用原料氫置換系統,將閥3放空。待系統內的高純氮置換干凈后,...
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高純氫氣發生器是由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥和開關電源等部件組成的設備。它通過電解純水來產生氫氣。在通電后,電解池的陰極會產生氫氣,而陽極則會產生氧氣。產生的氫氣會進入氫/水分離器,而氧氣則會排入大氣中。氫/水分離器的作用是將氫氣和水分離開來。經過除濕處理后的氫氣會經過穩壓閥和調節閥的調整,達到額定壓力(0.02~0.45Mpa可調),并由出口輸出。電解池的產氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右,當壓力達到設定值時,電解池的電源供應會被...
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零級空氣是一種用于凈化空氣源的裝置。它通過對壓縮空氣中的總碳氫化合物進行催化裂解,產生低于0.1ppm碳氫化合物的零級空氣。在含有鉑鈀載體的加熱催化器中,碳氫化合物被轉化為二氧化碳和水蒸氣。為了提高氣體質量并確保色譜基線平穩,零級空氣發生器內部采用了英國Peculiar硅橡膠圈(含硫量低)。零級空氣發生器在使用零級空氣發生器時,我們需要注意以下幾點,以方便更好地使用該設備:1、在工作過程中,如果壓縮機不啟動且熱保護繼電器啟動,說明壓縮機溫度過高。待冷卻后,設備將自動恢復正常運...
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CVD,MOCVD專用氫氣發生器在應用過程中主要用于提供高純度的氫氣,以滿足化學反應的需求,同時其使用操作包括了準備、開機、使用和關機等多個步驟。氫氣在化學氣相沉積(CVD)和金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)工藝中扮演著至關重要的角色。作為反應氣體,氫氣的純度和穩定性對薄膜的質量有著直接的影響。CVD,MOCVD專用氫氣發生器是這些工藝中重要的設備,它通過電解水的方式即時產生高純度的氫氣,從而避免了傳統鋼瓶供氣方式的諸多不便和安全隱患。在應用優勢方面,CVD,MOCVD專用...
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